4月9日，2015年世界碳粉大会在武汉隆重开幕，来自全球碳粉、激光配件及成品企业近千名从业人士参与了本次大会。作为国内公认的权威碳粉专家，思美亚研发中心首席工程师张秀山教授受邀出席会议并发表题为《物理碳粉与化学碳粉比较与选择》的演讲。

 

      张秀山武汉大学理学硕士毕业，拥有教授职称，拥有20余年有机化学、高分子研究经验，彩色碳粉学科带头人。他自2009年加盟天威以来，一直致力于打印耗材研发和技术创新，成功领导并研发了额兼容HP/Fuji Xerox/Samsung/Brother等系列碳粉。拥有碳粉方面中国授权专利8篇及美国授权专利1篇。

      演讲现场座无虚席、气氛热烈，张秀山教授的演讲得到广泛的认同及讨论。他分析比较了物理碳粉、化学碳粉各自的性能及制备过程，及未来碳粉市场发展趋势之后，指出不论是哪种碳粉，打印品质能满足、成本适合的就是好粉，物理法与化学法的互补共融会成为较长一段时间的主流趋势。

 

      张教授在演讲中还透露，目前碳粉需求量呈上升趋势，中国年需求量30.000吨左右（约占全球11%），化学的生产量有较大增长，物理碳粉需求量稳中有升。特别是彩色碳粉增长较亏，年增长率30%左右。

 

      世界碳粉大会之前一直在美国举办，2015年首次来到中国武汉，目前中国碳粉厂商以占领了世界绝大部分市场。